Sputterkopf
Hochleistungsmodul für präzise Beschichtung
Der entwickelte Sputterkopf ist ein hochkomplexes Bauteil für die präzise Materialbeschichtung in Hochleistungs-Sputteranlagen unter stark ionisierender Strahlung. Dabei wurde bewusst auf Kunststoffe zur Isolation verzichtet. Stattdessen kommt eine auf Erdpotential liegende Targetkühlung mit hochleitfähiger Keramik zum Einsatz, die zwischen zwei Kupferplatten vakuumgelötet ist.
Die innovative Mehrschichtkonstruktion kombiniert Funktionen wie Hochspannungsdurchführung, magnetische Flusssteuerung und hocheffiziente Kühlung. Der Kern besteht aus ferromagnetischem Stahl mit zwei zusätzlichen Schichten zur Magnetfeldmodulation. Das System bietet hohe magnetische Flussdichten bis 44 µT bei gleichzeitig zuverlässiger Kühlung (bis 2 kW).
Mikrochips, Transistoren, exakte Dünnschichten
Sensoren, Displays, optische Beschichtungen
Beschichtung von supraleitenden oder ferromagnetischen Materialien
Hochtemperatur- und mechanikresistente Komponenten
Der kundenspezifisch entwickelte Sputterkopf für stark ionisierende Umgebungen erfüllt höchste Ansprüche an Präzision, Leistungsfähigkeit und Sicherheit. Mit Mehrschichtaufbau, gezielter Magnetflussführung, robuster Kühlung und vakuumtauglicher Konstruktion ist er ein zentrales Element in Halbleitertechnik, Materialforschung und Beschichtungstechnologie.
REUTER TECHNOLOGIE GmbH
Röntgenstraße 1 - D-63755 Alzenau
