Die Kupfer-Abschirmung für eine Ionenstrahlquelle ist ein hochspezialisiertes Bauteil, das thermischen und elektrischen Schutz bietet. Sie besteht aus einer Käfigkonstruktion mit Grund- und Deckplatte sowie seitlichen Stäben, die eine optimale Abschirmung gegen elektrische Felder und eine effektive Wärmeabfuhr gewährleisten. Alle Komponenten sind über ein integriertes Flüssigkeitskühlsystem verbunden, um thermische Stabilität auch unter extremen Bedingungen sicherzustellen.
Gefertigt aus hochreinem Kupfer, besticht die Abschirmung durch hervorragende thermische und elektrische Leitfähigkeit. Sie wird vor allem in der Halbleiterfertigung, Materialbearbeitung und Forschung eingesetzt, wo präzise kontrollierte Bedingungen erforderlich sind.
Abschirmung empfindlicher Komponenten und thermische Stabilisierung.
Nutzung in Beschichtungs-, Ätz- und Strukturierungsprozessen.
Abschirmung in Experimenten der Plasmaforschung und Kernphysik.
Verwendung in Beschleunigern für strahlentherapeutische Anwendungen.
Die Kupfer-Abschirmung vereint thermische Stabilität, effektive Kühlung und elektrische Abschirmung in einem hochspezialisierten Bauteil. Dank hochpräziser Fertigung, komplexer Kühlkanal-Integration und modernster Fügetechnologien ist sie eine unverzichtbare Komponente für Hochleistungsanwendungen in der Halbleiterindustrie, Forschung und Medizintechnik. Ihre exzellente Wärmeleitfähigkeit, vakuumdichte Konstruktion und hochwertige Oberflächengüte garantieren optimale Leistung auch unter extremen Bedingungen.
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